6470B LC/MS/MS 系統(tǒng)結(jié)合了多項(xiàng)技術(shù)優(yōu)勢(shì),例如安捷倫噴射流離子源、彎曲的碰撞池幾何設(shè)計(jì)和 ±20 kV 高能量打拿極。這些創(chuàng)新使您能夠大大提高電離效率、大幅縮短儀器停機(jī)時(shí)間并達(dá)到低檢測(cè)限,同時(shí)實(shí)現(xiàn)寬線性動(dòng)態(tài)范圍。VacShield 真空盾的加入增強(qiáng)了系統(tǒng)久經(jīng)考驗(yàn)的穩(wěn)定性和可靠性,使您的實(shí)驗(yàn)室僅需少維護(hù)便可實(shí)現(xiàn)更長(zhǎng)時(shí)間的不間斷分析。
特性
使用 VacShield 真空盾技術(shù)縮短維護(hù)時(shí)間,讓您無(wú)需卸真空即可進(jìn)行離子導(dǎo)入毛細(xì)管維護(hù)
使用安捷倫噴射流 (AJS) 離子源增加形成的離子,可實(shí)現(xiàn)低至亞飛克級(jí)的檢測(cè)限
多種通用且易于配置的離子源使您能夠處理任何類(lèi)型的 LC/MS 分析(AJS、ESI、APCI 和 MMI)
質(zhì)量數(shù)范圍寬,可分析各種類(lèi)別和大小的離子(從小分子到多電荷肽)
利用觸發(fā)式多反應(yīng)監(jiān)測(cè) (tMRM) 進(jìn)行篩查、確認(rèn)和定量,該功能將快速、靈敏的 MRM 定量分析與產(chǎn)物離子譜圖生成相結(jié)合,用于譜庫(kù)檢索、化合物篩查和確認(rèn)
內(nèi)置技術(shù)控制功能與程序控制相結(jié)合控制訪問(wèn),幫助您遵循 US FDA 21 CFR Part 11、歐盟附錄 11 及類(lèi)似的國(guó)家電子記錄法規(guī)的要求
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